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通用湿法工作台（手动/半自动）
产品描述
通用湿法工作台（手动/半自动）
我们开发和制造用于加工硅晶片、平板显示器和其他微电子基板的清洁、冲洗、干燥湿工作台（手动、半自动和自动）、超声波和兆声波清洁系统。
使用不同类型的化学品进行晶圆或衬底的清洁、蚀刻或剥离过程。化学品的选择将根据其应用匹配零件或材料。
我们还为现有湿站的翻新和升级提供服务。
我们的湿站符合以下标准：
SEMI （S2-93） 制造安全指南，符合 FM-200 标准，并提供多种工作台材料：SS、PP、FM4910 认证材料（FRPP、CPVC 等）
